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[多选题]

FCDA生产过程更换新晶圆后需双人核对()。

A.参考点位置

B.map良品数

C.晶圆批号

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更多“FCDA生产过程更换新晶圆后需双人核对()。”相关的问题

第1题

设备更换晶圆后,必须双人核对晶圆数量及参考点位置,并在()上签字。

A.流程卡

B.中测单

C.晶圆管制卡

D.map上芯数统计记录

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第2题

FCDA作业时,晶圆上机后设备扫描晶圆上条码,自动读取调用map。()
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第3题

晶圆上机前,核对确认晶圆刻号与条码信息一致,倾斜晶圆,在灯光下0°~45°范围内缓慢晃动晶圆,目检确认晶圆外观,无外观缺陷后上机。()
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第4题

晶圆传递时,晶圆()拿取晶圆,严禁手指触碰晶圆有芯片区域。

A.正面朝上

B.正面朝下

C.双手

D.单手

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第5题

划片上料前要核对的项目有哪些?()

A.来料有无缺损、裂片、蹭划伤、沾污等

B.晶圆批号、片数及条码标签

C.产品是否已划片

D.激光开槽产品是否已开槽

E.晶圆背面有无杂质、膜丝、气泡

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第6题

集成电路的主要制造流程是()

A.硅抛光片-晶圆-片-成品测试-集成电路

B.晶圆-硅抛光片-成品测试-芯片-集成电路

C.硅抛光片-芯片-晶圆-成品测试-集成电路

D.硅片=芯片=成品测试-晶圆-集成电路

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第7题

晶圆传递时,单手拿晶圆。()
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第8题

设备当前晶圆加工完成后,卸载晶圆,填写补全《mapping上芯数统计记录》相应片号晶圆对应的一栏。()
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第9题

同一晶带的晶面的极射赤平投影点不可能出现的位置有()

A.基圆上

B.直径上

C.大圆弧上

D.小圆弧上

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第10题

晶圆是制造半导体芯片的基本材料,半导体集成电路最主要原料是硅,因此对应的就是硅晶圆。()
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第11题

沾污引起的电学缺陷引起(),硅片上的管芯报废以及很高的芯片制造成本。

A.不会影响成品率

B.晶圆缺陷

C.成品率损失

D.晶圆损失

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