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[多选题]

以下（)选项都需要考虑晶体取向的影响。

A.单晶片的制备

B.管芯划片方向

C.器件的制作

D.单晶材料制备

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发布时间：2022-05-20

更多“以下()选项都需要考虑晶体取向的影响。”相关的问题

第1题

为减少固定电荷密度和快界面态的影响，在制备MOS器件时通常选择硅单晶的方向为（）

A.【100】

B.【111】

C.【110】

D.【111】或【110】

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第2题

利用单向凝固时的非平衡凝固原理可以对材料进行（)。

A.A.减缓缺陷

B.B.区域提纯

C.C.制备单晶

D.D.细化晶粒

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第3题

制作啤酒的工艺过程包括（）。

A.麦芽制备

B.麦精制备

C.提取酒精

D.大麦蒸馏

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第4题

下面哪种不是单晶硅的制备方法（)。

A.硅带法

B.区熔法

C.直拉单晶法

D.磁拉法

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第5题

某压电晶体的频率常数Nt=2000KHz·mm,欲制作中心频率5MHz的晶片,其晶片厚度应为（)

A.0.2mm

B.0.4mm

C.0.8mm

D.1.6mm

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第6题

光纤端面制备的准备工作包括（)。

A.光纤制作的工具准备

B.熔接平台布置

C.光纤制作材料准备

D.熔纤机校正、放电试验

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第7题

下面关于多晶和单晶的关系的描述正确的是（)。

A.多晶是由若干个取向相同的小单晶构成的

B.多晶是由若干个取向不同的小单晶构成的

C.多晶是由若干个小单晶构成的，单晶的取向无所谓

D.多晶与单晶毫无关系

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第8题

制备明矾晶体时的水浴温度为（）

A.80 ℃

B.60 ℃

C.50 ℃

D.70 ℃

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第9题

下列哪些选项是材料科学与工程的基本要素（)。

A.材料的成分与结构

B.材料的性质

C.材料的制备与加工

D.材料的使用性能

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第10题

第二次世界大战以后，电子工业和半导体工业对超纯材料的要求导致()及各种单晶制备方法和气相沉积法的出现。

第二次世界大战以后，电子工业和半导体工业对超纯材料的要求导致（)及各种单晶制备方法和气相沉积法的出现。

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第11题

乙酰苯胺制备实验合格产品的物理状态为（）。

A.无色片状晶体

B.无色针状晶体

C.灰色片状晶体

D.无色澄清液体

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